三菱化学将开设新的胶体二氧化硅生产设施

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三菱化学将新建胶体二氧化硅生产设施

2026年8月21日

RubberWorld

日本东京 – 三菱化学株式会社宣布，已决定将超高纯度胶体二氧化硅商业化，用作尖端半导体抛光剂的原料。公司计划在位于福冈县北九州市的九州工厂（福冈地区）新建生产设施，并于2028年10月在该工厂开始商业运营。

胶体二氧化硅用作硅片表面抛光剂的原料，以及用于硅片互连层的化学机械抛光（CMP）浆料的原料。在抛光硅片布线层时，需要实现高材料去除率，同时以纳米级精度使表面平坦化，确保无杂质，并尽可能减少划痕；胶体二氧化硅颗粒的适当形状和物理性质因被抛光材料的不同而异。

公司新推进商业化的超高纯度胶体二氧化硅，是通过使用最大限度减少杂质含量的超高纯度原料（四甲氧基硅烷）的一体化制造工艺生产而成。凭借多年来积累的先进技术专长，粒径和密度等参数可根据客户需求进行定制。

可满足客户需求的超高纯度胶体二氧化硅

半导体市场预计将进一步增长，尤其是在生成式人工智能和数据中心等尖端领域。在其管理愿景“KAITEKI Vision 35”中，公司将“实现先进的数据处理和通信”确定为重点业务领域之一，并据此将向全球提供尖端半导体制造所必需的材料，为支持半导体发展的材料供应链做出贡献。

*本文来源：Rubber World。仅供行业信息参考。