三菱化學將開設新的膠體二氧化矽生產設施

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三菱化學將開設新的膠體二氧化矽生產設施

2026年8月21日

RubberWorld

日本東京 – 三菱化學株式會社宣布，已決定將超高純度膠體二氧化矽商品化，用作尖端半導體研磨劑的原料。該公司計劃在北九州市（福岡縣）的九州工廠（福岡地區）建立新生產設施，並於2028年10月開始商業營運。

膠體二氧化矽用作矽晶圓表面研磨劑的原料，以及用於矽晶圓互連層的化學機械研磨（CMP）漿料之原料。在研磨矽晶圓的佈線層時，必須在實現高材料去除率的同時，將表面在奈米尺度上平坦化，確保無雜質，並盡量減少刮痕；膠體二氧化矽顆粒的適當形狀和物理性質會因被研磨的材料而異。

該公司新商品化的超高純度膠體二氧化矽，是使用可將雜質含量降至最低的超高純度原料（四甲氧基矽烷），透過整合製造流程生產。憑藉多年累積的先進技術專業知識，粒徑和密度等參數可依客戶需求進行客製化。

客製化滿足客戶需求的超高純度膠體二氧化矽

半導體市場預期將進一步成長，特別是在生成式AI和資料中心等尖端領域。在其經營願景「KAITEKI Vision 35」中，該公司已將「實現先進的數據處理和電信」列為關鍵業務重點領域之一，因此將提供全球尖端半導體製造所需的材料，並為……做出貢獻。

*Source: Rubber World. For reference only.