Mitsubishi Chemical öppnar ny produktionsanläggning för kolloidal kiseldioxid

Newsrss4

Mitsubishi Chemical öppnar ny produktionsanläggning för kolloidal kiseldioxid

21 augusti 2026

RubberWorld

Tokyo, Japan – Mitsubishi Chemical Corporation meddelade att man har beslutat att kommersialisera ultraren kolloidal kiseldioxid för användning som råmaterial för polermedel i avancerade halvledare. Företaget planerar att etablera nya produktionsanläggningar vid sin Kyushu-fabrik (Fukuoka-området) i Kitakyushu, Fukuoka prefektur, och påbörja kommersiell verksamhet där i oktober 2028.

Kolloidal kiseldioxid används som råmaterial för ytpolermedel för kiselwafers och som råmaterial för kemisk-mekanisk polering (CMP) -slurry som används på kiselwafers interconnectionslager. Vid polering av kiselwafers ledningslager är det nödvändigt att uppnå höga materialavverkningshastigheter samtidigt som ytan planas ut i nanoskala, säkerställa frånvaro av föroreningar och minimera repor så mycket som möjligt; lämplig form och fysikaliska egenskaper hos kolloidala kiseldioxidpartiklar varierar beroende på vilket material som poleras.

Den ultrarena kolloidala kiseldioxiden som företaget nyligen kommersialiserar produceras genom en integrerad tillverkningsprocess med ett ultrarent råmaterial (tetrametoxisilan) som minimerar föroreningsinnehållet. Med hjälp av avancerad teknisk expertis som byggts upp under många år kan parametrar som partikelstorlek och densitet anpassas för att möta kundernas behov.

Den ultrarena kolloidala kiseldioxiden, anpassningsbar efter kundernas behov

Halvledarmarknaden förväntas växa ytterligare, särskilt inom avancerade sektorer som generativ AI och datacenter. I sin ledningsvision "KAITEKI Vision 35" har företaget identifierat "Möjliggöra avancerad databehandling och telekommunikation" som ett av sina viktigaste affärsfokusområden, och kommer därmed att tillhandahålla material som är nödvändiga för avancerad halvledartillverkning världen över och bidra till ...

*Source: Rubber World. For reference only.